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Al元素電沉積工藝研究現狀

時間:2019-05-17 20:26來源:畢業論文
Al元素電沉積工藝研究現狀高溫環境中,鎳基合金容易發生高溫氧化從而造成合金材料的損壞或脫落,通過研究發現在鎳基中加入Al元素能夠提高合金抗氧化性。原因在于,在高溫環境中

Al元素電沉積工藝研究現狀高溫環境中,鎳基合金容易發生高溫氧化從而造成合金材料的損壞或脫落,通過研究發現在鎳基中加入Al元素能夠提高合金抗氧化性。原因在于,在高溫環境中,含Al合金易氧化生成Al2O3氧化膜,起到保護合金作用,以防止合金進一步氧化。35436
Yao S, Mu G, Zhang W等[21]在Ni-P電鍍槽中加入納米Al2O3,通過化學鍍方法制備Ni-P/納米Al2O3復合鍍層。用電子掃描電鏡(SEM)和X-Ray衍射儀(XRD)表征復合鍍層形貌,研究Al2O3沉積含量和熱處理,對鍍層微觀結構和性能的影響。研究結果表明:與Ni鍍層相比,Ni-nano-Al2O3復合鍍層具有較高的硬度和耐磨性。此外,當nano-Al2O3沉積含量達到10%時,與Ni-P鍍層相比,Ni-nanoAl2O3硬度增加28%,并且磨損損失下降20%。400℃的熱處理后,復合鍍層從非晶態轉化為晶態結構,硬度和磨損性能顯著提升。論文網
田海燕等[22]利用電脈-電沉積方法,以銅基體制備Ni-Al2O3納米復合鍍層,提高了鍍層中納米微粒含量。先在銅基體表面先通過電泳沉積技術電沉積出20nm粒徑的Al2O3涂層,之后在Al2O3涂層表面電沉積金屬鎳,獲得體積分數為55.6%的Al2O3納米復合鍍層。利用儀器對鍍層形貌以及基體結合強度進行表征與分析,結果顯示:采用電脈-電沉積法制備的納米復合鍍層比純鎳復合鍍層的組織致密均勻,晶粒細化,鍍層與基體結合強度提高。
Nabeen K. Shrestha等[23]首先使用“兩步法”制備出Ni-P-Al2O3復合鍍層,通過儀器表征并分析其抗摩擦性能。具體方法為:在銅基體上,通過化學鍍的方法上制備Ni-P鍍層;然后在Ni-P鍍層上,通過電泳沉積的方法,制備出Ni-P-Al2O3復合鍍層。研究結果表明:加入Al2O3顆粒的Ni-P-Al2O3復合鍍層比不加Al2O3顆粒的Ni-P鍍層,具有較好的耐摩擦性能。熱處理復合鍍層,發現其耐磨性能有所增強。發生的原因是熱處理后鍍層的晶型發生了轉變,NiP3合金向Ni-P合金穩定相的轉變。

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徐江等[24]采用雙輝光等離子噴涂技術,在316L不銹鋼上制備出摻雜納米Al2O3微粒的Ni-Cr-Mo-Cu復合鍍層。通過掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)、X射線衍射儀分析(XRD)對復合鍍層的表面形貌和物相結構表征。結果顯示:1000℃ Al2O3納米微粒局部進入γ-Ni晶格中,形成Ni3Al物相。Ni3Al相和γ-Ni相具有獨特的晶體取向。對耐腐蝕性能測試分析,結果表明:混有納米Al2O3微粒的Ni-Cr-Mo-Cu復合鍍層的耐腐蝕性較優。
N. A. Badarulzaman等[25]在低碳鋼上,采用電沉積方法系統地研究制備Ni/α-Al2O3鍍層的最佳條件。工藝條件為:溫度為27℃、α-Al2O3濃度為2g/L、電流密度為30mA/cm2、攪拌速度250、200、150、100、50r/min。利用場致發射掃描電子顯微鏡,發現鍍層表面粗糙,橫截面微觀結構顯示α-Al2O3微粒,進入部分Ni晶格中;能譜儀測試結果發現復合鍍層中含有Ni和α-Al2O3成分;維氏硬度計測試結果顯示,在轉速為250 r/min時,鍍層的硬度增加了60%。
Zhong jia Huang等[26]在鍍鎳電解液中,加入MoS2/Al2O3,通過電沉積方法制備出Ni- MoS2/Al2O3復合鍍層。鍍液中表面活性劑為十六烷基三甲基溴化銨(CTMAB),結果表明:MoS2/Al2O3微粒濃度的增加,復合鍍層中MoS2/Al2O3的含量也增加。通過儀器表征,分析Ni-MoS2/Al2O3復合鍍層的表面形貌、硬度、物相組成和摩擦性能。結果表明:Ni-MoS2/Al2O3復合鍍層的硬度和耐摩擦性能比Ni-MoS2鍍層有所提升。 Al元素電沉積工藝研究現狀:http://www.aftnzs.live/yanjiu/20190517/33382.html
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